tradingkey.logo


Axcelis Technologies Inc

ACLS
î˜đ
āļ”āļđāđāļœāļ™āļ āļđāļĄāļīāđ‚āļ”āļĒāļĨāļ°āđ€āļ­āļĩāļĒāļ”
86.080USD
+4.590+5.63%
āļ›āļīāļ” 02/06, 16:00ETāļĢāļēāļ„āļēāļĨāđˆāļēāļŠāđ‰āļē 15 āļ™āļēāļ—āļĩ
2.67BāļĄāļđāļĨāļ„āđˆāļēāļ•āļĨāļēāļ”
20.28P/E TTM

Intraday
1m
30m
1h
D
W
M
D

āļ§āļąāļ™āļ™āļĩāđ‰

+5.63%

5 āļ§āļąāļ™

-2.26%

1 āđ€āļ”āļ·āļ­āļ™

-7.43%

6 āđ€āļ”āļ·āļ­āļ™

+8.26%

āļ•āđ‰āļ™āļ›āļĩāļˆāļ™āļ–āļķāļ‡āļ›āļąāļˆāļˆāļļāļšāļąāļ™

+7.14%

1 āļ›āļĩ

+34.77%

āļ”āļđāđāļœāļ™āļ āļđāļĄāļīāđ‚āļ”āļĒāļĨāļ°āđ€āļ­āļĩāļĒāļ”

āļ„āļ°āđāļ™āļ™āļŦāļļāđ‰āļ™ TradingKey āļ‚āļ­āļ‡ Axcelis Technologies Inc

āļŠāļāļļāļĨāđ€āļ‡āļīāļ™: USD āļ­āļąāļ›āđ€āļ”āļ•āđ€āļĄāļ·āđˆāļ­: 2026-02-06

āļ‚āđ‰āļ­āļĄāļđāļĨāđ€āļŠāļīāļ‡āļĨāļķāļ

āļ›āļąāļˆāļˆāļąāļĒāļžāļ·āđ‰āļ™āļāļēāļ™āļ‚āļ­āļ‡ Axcelis Technologies Inc āļ„āđˆāļ­āļ™āļ‚āđ‰āļēāļ‡ āđāļ‚āđ‡āļ‡āđāļāļĢāđˆāļ‡āļĄāļēāļāđ‚āļ”āļĒāļĄāļĩāļāļēāļĢāđ€āļ›āļīāļ”āđ€āļœāļĒāļ‚āđ‰āļ­āļĄāļđāļĨ ESG āļ­āļĒāļđāđˆāđƒāļ™āļĢāļ°āļ”āļąāļšāđāļ™āļ§āļŦāļ™āđ‰āļēāļ‚āļ­āļ‡āļ­āļļāļ•āļŠāļēāļŦāļāļĢāļĢāļĄāđāļĨāļ°āļĻāļąāļāļĒāļ āļēāļžāđƒāļ™āļāļēāļĢāđ€āļ•āļīāļšāđ‚āļ•āļ™āļąāđ‰āļ™ āļŠāļđāļ‡āļĄāļđāļĨāļ„āđˆāļēāļ›āļĢāļ°āđ€āļĄāļīāļ™āļ‚āļ­āļ‡āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—āļ™āļĩāđ‰āļ–āļ·āļ­āļ§āđˆāļē āļĄāļđāļĨāļ„āđˆāļēāļĒāļļāļ•āļīāļ˜āļĢāļĢāļĄāļ­āļąāļ™āļ”āļąāļš 39 āļˆāļēāļāļ—āļąāđ‰āļ‡āļŦāļĄāļ” 104 āđƒāļ™āļ­āļļāļ•āļŠāļēāļŦāļāļĢāļĢāļĄ āđ€āļ‹āļĄāļīāļ„āļ­āļ™āļ”āļąāļāđ€āļ•āļ­āļĢāđŒāđāļĨāļ°āļ­āļļāļ›āļāļĢāļ“āđŒāđ€āļ‹āļĄāļīāļ„āļ­āļ™āļ”āļąāļāđ€āļ•āļ­āļĢāđŒāđāļĨāļ°āļāļēāļĢāļ–āļ·āļ­āļ„āļĢāļ­āļ‡āđ‚āļ”āļĒāļŠāļ–āļēāļšāļąāļ™āļ–āļ·āļ­āļ§āđˆāļē āļŠāļđāļ‡āļĄāļēāļāļ•āļĨāļ­āļ”āļŠāđˆāļ§āļ‡āđ€āļ”āļ·āļ­āļ™āļ—āļĩāđˆāļœāđˆāļēāļ™āļĄāļē āļ™āļąāļāļ§āļīāđ€āļ„āļĢāļēāļ°āļŦāđŒāļŦāļĨāļēāļĒāļĢāļēāļĒāđ„āļ”āđ‰āļˆāļąāļ”āļ­āļąāļ™āļ”āļąāļšāđ€āļ›āđ‡āļ™ āļ–āļ·āļ­āļ„āļĢāļ­āļ‡ āđ‚āļ”āļĒāļĄāļĩāļĢāļēāļ„āļēāđ€āļ›āđ‰āļēāļŦāļĄāļēāļĒāļŠāļđāļ‡āļŠāļļāļ”āļ—āļĩāđˆ 107.71āđƒāļ™āļĢāļ°āļĒāļ°āļāļĨāļēāļ‡ āļ„āļēāļ”āļ§āđˆāļēāļĢāļēāļ„āļēāļŦāļļāđ‰āļ™āļˆāļ° āļ—āļĢāļ‡āļ•āļąāļ§āđāļĄāđ‰āļ§āđˆāļēāļœāļĨāļāļēāļĢāļ”āļģāđ€āļ™āļīāļ™āļ‡āļēāļ™āđƒāļ™āļ•āļĨāļēāļ”āļŦāļļāđ‰āļ™āļˆāļ°āļ­āđˆāļ­āļ™āđāļ­āđƒāļ™āļŠāđˆāļ§āļ‡āđ€āļ”āļ·āļ­āļ™āļ—āļĩāđˆāļœāđˆāļēāļ™āļĄāļē āđāļ•āđˆāļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—āļĄāļĩāļ—āļąāđ‰āļ‡āļ›āļąāļˆāļˆāļąāļĒāļžāļ·āđ‰āļ™āļāļēāļ™āđāļĨāļ°āļŠāļąāļāļāļēāļ“āļ—āļēāļ‡āđ€āļ—āļ„āļ™āļīāļ„āļ—āļĩāđˆāđāļ‚āđ‡āļ‡āđāļāļĢāđˆāļ‡āļĢāļēāļ„āļēāļŦāļļāđ‰āļ™āļāļģāļĨāļąāļ‡āđ€āļ„āļĨāļ·āđˆāļ­āļ™āđ„āļŦāļ§āđƒāļ™āļāļĢāļ­āļšāđāļ„āļšāļĢāļ°āļŦāļ§āđˆāļēāļ‡āđāļ™āļ§āļĢāļąāļšāđāļĨāļ°āđāļ™āļ§āļ•āđ‰āļēāļ™ āļ—āļģāđƒāļŦāđ‰āđ€āļŦāļĄāļēāļ°āļŠāļģāļŦāļĢāļąāļšāļāļēāļĢāđ€āļ—āļĢāļ”āđāļšāļšāļŠāļ§āļīāļ‡āđƒāļ™āļāļĢāļ­āļšāļĢāļēāļ„āļē

āļ„āļ°āđāļ™āļ™āļ‚āļ­āļ‡ Axcelis Technologies Inc

āļ‚āđ‰āļ­āļĄāļđāļĨāļ—āļĩāđˆāđ€āļāļĩāđˆāļĒāļ§āļ‚āđ‰āļ­āļ‡

āļ­āļąāļ™āļ”āļąāļšāđƒāļ™āļ­āļļāļ•āļŠāļēāļŦāļāļĢāļĢāļĄ
39 / 104
āļ­āļąāļ™āļ”āļąāļšāļĢāļ§āļĄ
143 / 4521
āļ­āļļāļ•āļŠāļēāļŦāļāļĢāļĢāļĄ
āđ€āļ‹āļĄāļīāļ„āļ­āļ™āļ”āļąāļāđ€āļ•āļ­āļĢāđŒāđāļĨāļ°āļ­āļļāļ›āļāļĢāļ“āđŒāđ€āļ‹āļĄāļīāļ„āļ­āļ™āļ”āļąāļāđ€āļ•āļ­āļĢāđŒ

āđāļ™āļ§āļ•āđ‰āļēāļ™ & āđāļ™āļ§āļĢāļąāļš

āļ‚āđ‰āļ­āļĄāļđāļĨāļ—āļĩāđˆāđ€āļāļĩāđˆāļĒāļ§āļ‚āđ‰āļ­āļ‡āļĒāļąāļ‡āđ„āļĄāđˆāđ„āļ”āđ‰āļĢāļąāļšāļāļēāļĢāđ€āļ›āļīāļ”āđ€āļœāļĒāļˆāļēāļāļ—āļēāļ‡āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—

āđāļœāļ™āļ āļđāļĄāļīāđ€āļĢāļ”āļēāļĢāđŒ

āļĢāļēāļ„āļēāļ›āļąāļˆāļˆāļļāļšāļąāļ™
āļ„āļĢāļąāđ‰āļ‡āļāđˆāļ­āļ™

āļāļēāļĢāļ™āļģāđ€āļŠāļ™āļ­āļ‚āđˆāļēāļ§āļ‚āļ­āļ‡āļŠāļ·āđˆāļ­

24 āļŠāļąāđˆāļ§āđ‚āļĄāļ‡āļ—āļĩāđˆāļœāđˆāļēāļ™āļĄāļē
āļĢāļ°āļ”āļąāļšāļāļēāļĢāļ™āļģāđ€āļŠāļ™āļ­āļ‚āđˆāļēāļ§

āļ•āđˆāļģāļĄāļēāļ
āļŠāļđāļ‡āļĄāļēāļ
āđ€āļ›āđ‡āļ™āļāļĨāļēāļ‡

āļˆāļļāļ”āđ€āļ”āđˆāļ™āļ‚āļ­āļ‡ Axcelis Technologies Inc

āļˆāļļāļ”āđāļ‚āđ‡āļ‡āļ„āļ§āļēāļĄāđ€āļŠāļĩāđˆāļĒāļ‡
Axcelis Technologies, Inc. provides high-productivity solutions for the semiconductor industry. The Company is focused on developing enabling process applications through the design, manufacture and complete life cycle support of ion implantation systems, one of the critical and enabling steps in the IC manufacturing process. Its ion implantation products include high current ion implant, high energy ion implant and medium current ion implant. The Company's Purion H, Purion Dragon, Purion H200, and GSD/E2 Ovation spot beam, high current systems cover all traditional high current requirements as well as those associated with emerging and future devices. Its Purion XE, EXE, and other Purion high energy systems combine its production-proven RF Linac high energy, spot beam technology with the Purion platform wafer handling system. Its medium current ion implant products include its Purion M Si and SiC medium current systems. It also offers its customers aftermarket service and support.
āļĄāļđāļĨāļ„āđˆāļēāļĒāļļāļ•āļīāļ˜āļĢāļĢāļĄ
PB āļĨāđˆāļēāļŠāļļāļ”āļ‚āļ­āļ‡āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—āļ­āļĒāļđāđˆāļ—āļĩāđˆ 2.62 āļ‹āļķāđˆāļ‡āļ­āļĒāļđāđˆāđƒāļ™āļŠāđˆāļ§āļ‡āđ€āļ›āļ­āļĢāđŒāđ€āļ‹āđ‡āļ™āđ„āļ—āļĨāđŒāļ›āļēāļ™āļāļĨāļēāļ‡āļ‚āļ­āļ‡āļĢāļ­āļš 3 āļ›āļĩ
āļāļēāļĢāđ€āļ‚āđ‰āļēāļ‹āļ·āđ‰āļ­āđ‚āļ”āļĒāļŠāļ–āļēāļšāļąāļ™
āļāļēāļĢāļ–āļ·āļ­āļ„āļĢāļ­āļ‡āļĨāđˆāļēāļŠāļļāļ”āđ‚āļ”āļĒāļŠāļ–āļēāļšāļąāļ™āļ­āļĒāļđāđˆāļ—āļĩāđˆ 32.39M āļŦāļļāđ‰āļ™ āđ€āļžāļīāđˆāļĄāļ‚āļķāđ‰āļ™ 0.20% āđāļšāļšāđ„āļ•āļĢāļĄāļēāļŠāļ•āđˆāļ­āđ„āļ•āļĢāļĄāļēāļŠ
āļ–āļ·āļ­āļ„āļĢāļ­āļ‡āđ‚āļ”āļĒ PRFDX
āļ™āļąāļāļĨāļ‡āļ—āļļāļ™āļŠāļ·āđˆāļ­āļ”āļąāļ‡ PRFDX āļ–āļ·āļ­āļŦāļļāđ‰āļ™āļ•āļąāļ§āļ™āļĩāđ‰āļ­āļĒāļđāđˆāļˆāļģāļ™āļ§āļ™ 502.82K āļŦāļļāđ‰āļ™

āļĢāļēāļ„āļēāđ€āļ›āđ‰āļēāļŦāļĄāļēāļĒāļ™āļąāļāļ§āļīāđ€āļ„āļĢāļēāļ°āļŦāđŒ

āļ­āđ‰āļēāļ‡āļ­āļīāļ‡āļˆāļēāļāļ™āļąāļāļ§āļīāđ€āļ„āļĢāļēāļ°āļŦāđŒāļ—āļąāđ‰āļ‡āļŦāļĄāļ” 7 āļ„āļ™
āļ–āļ·āļ­āļ„āļĢāļ­āļ‡
āļ„āļ°āđāļ™āļ™āļ›āļąāļˆāļˆāļļāļšāļąāļ™
107.714
āļĢāļēāļ„āļēāđ€āļ›āđ‰āļēāļŦāļĄāļēāļĒ
+30.15%
āđ‚āļ­āļāļēāļŠāđƒāļ™āļāļēāļĢāđ€āļ•āļīāļšāđ‚āļ•āļ‚āļ­āļ‡āļĢāļēāļ„āļē
āļ„āļģāļŠāļĩāđ‰āđāļˆāļ‡: āļāļēāļĢāļˆāļąāļ”āļ­āļąāļ™āļ”āļąāļšāđāļĨāļ°āļĢāļēāļ„āļēāđ€āļ›āđ‰āļēāļŦāļĄāļēāļĒāđ‚āļ”āļĒāļ™āļąāļāļ§āļīāđ€āļ„āļĢāļēāļ°āļŦāđŒāļˆāļąāļ”āļ—āļģāđ‚āļ”āļĒ LSEG āđ€āļžāļ·āđˆāļ­āļ§āļąāļ•āļ–āļļāļ›āļĢāļ°āļŠāļ‡āļ„āđŒāđƒāļ™āļāļēāļĢāđƒāļŦāđ‰āļ‚āđ‰āļ­āļĄāļđāļĨāđ€āļ—āđˆāļēāļ™āļąāđ‰āļ™ āđāļĨāļ°āđ„āļĄāđˆāļ–āļ·āļ­āđ€āļ›āđ‡āļ™āļ„āļģāđāļ™āļ°āļ™āļģāđƒāļ™āļāļēāļĢāļĨāļ‡āļ—āļļāļ™

Axcelis Technologies Inc āļ‚āđˆāļēāļ§āļŠāļēāļĢ

āļˆāļ°āļĄāļĩāļ‚āđˆāļēāļ§āļŠāļēāļĢāđ€āļžāļīāđˆāļĄāđ€āļ•āļīāļĄāđ€āļĢāđ‡āļ§āđ† āļ™āļĩāđ‰ āđ‚āļ›āļĢāļ”āļ•āļīāļ”āļ•āļēāļĄ...

āļ•āļąāļ§āļŠāļĩāđ‰āļ§āļąāļ”āļ—āļēāļ‡āļāļēāļĢāđ€āļ‡āļīāļ™î˜

EPS

āļ‚āđ‰āļ­āļĄāļđāļĨāļ—āļĩāđˆāđ€āļāļĩāđˆāļĒāļ§āļ‚āđ‰āļ­āļ‡āļĒāļąāļ‡āđ„āļĄāđˆāđ„āļ”āđ‰āļĢāļąāļšāļāļēāļĢāđ€āļ›āļīāļ”āđ€āļœāļĒāļˆāļēāļāļ—āļēāļ‡āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—

āļĢāļēāļĒāđ„āļ”āđ‰āļĢāļ§āļĄ

āļ‚āđ‰āļ­āļĄāļđāļĨāļ—āļĩāđˆāđ€āļāļĩāđˆāļĒāļ§āļ‚āđ‰āļ­āļ‡āļĒāļąāļ‡āđ„āļĄāđˆāđ„āļ”āđ‰āļĢāļąāļšāļāļēāļĢāđ€āļ›āļīāļ”āđ€āļœāļĒāļˆāļēāļāļ—āļēāļ‡āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—

āļ‚āđ‰āļ­āļĄāļđāļĨ Axcelis Technologies Inc

Axcelis Technologies, Inc. provides high-productivity solutions for the semiconductor industry. The Company is focused on developing enabling process applications through the design, manufacture and complete life cycle support of ion implantation systems, one of the critical and enabling steps in the IC manufacturing process. Its ion implantation products include high current ion implant, high energy ion implant and medium current ion implant. The Company's Purion H, Purion Dragon, Purion H200, and GSD/E2 Ovation spot beam, high current systems cover all traditional high current requirements as well as those associated with emerging and future devices. Its Purion XE, EXE, and other Purion high energy systems combine its production-proven RF Linac high energy, spot beam technology with the Purion platform wafer handling system. Its medium current ion implant products include its Purion M Si and SiC medium current systems. It also offers its customers aftermarket service and support.
āļŠāļąāļāļĨāļąāļāļĐāļ“āđŒāļĒāđˆāļ­āļ‚āļ­āļ‡āļŦāļļāđ‰āļ™ACLS
āļšāļĢāļīāļĐāļąāļ—Axcelis Technologies Inc
āļ‹āļĩāļ­āļĩāđ‚āļ­Low (Russell J)
āđ€āļ§āđ‡āļšāđ„āļ‹āļ•āđŒhttps://www.axcelis.com/
KeyAI
î™